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紋影儀
- 產(chǎn)品型號：WKWY-300
- 更新時(shí)間：2024-06-19
- 產(chǎn)品介紹：WKWY-300紋影儀是利用光在被測流場(chǎng)中的折射率梯度正比于流場(chǎng)的氣流密度的原理，將流場(chǎng)中密度梯度的變化轉變?yōu)橛涗浧矫嫔舷鄬鈴姷淖兓?，使可壓縮流場(chǎng)中的激波、壓縮波等密度變化劇烈可用來(lái)觀(guān)察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動(dòng)的分布、傳播過(guò)程以及擾動(dòng)強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內彈道及某些化學(xué)反應等學(xué)科的流場(chǎng)密度變化科學(xué)研究。
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產(chǎn)品介紹
紋影儀可用來(lái)觀(guān)察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動(dòng)的分布、傳播過(guò)程以及擾動(dòng)強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內彈道及某些化學(xué)反應等學(xué)科的流場(chǎng)密度變化科學(xué)研究。泰普勒紋影儀是傳統、使用*的一種。
技術(shù)參數：
| 參數 | 最大值 | 最小值 | 備注 |
| 視場(chǎng) | Φ1000mm | Φ50mm | |
| 相對孔徑 | 1:10 | 1:20 | |
| 像鑒別率 | ≥40lp/mm | ||
| 照明設備 | 普通激光光源、LED光源、鎢燈光源 | ||
| 成像傳感器 | 數碼單反相機、高速相機、記錄干板 | ||
| 狹縫類(lèi)型 | 單狹縫、多狹縫、小孔、色散棱鏡或光柵、彩色圓孔或者方孔狹縫 | ||
| 刀口類(lèi)型 | 單刀口、雙刀口、四刀口、柵格刀口、圓形刀口等 | ||
| 結構類(lèi)型 | 積木式、筒式、平板式或者相關(guān)結構類(lèi)型 | ||
其中主反射鏡光學(xué)材料：K9光學(xué)玻璃，應力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜，反射系數≥90%，面型精度＜1/10波長(cháng)。
該系統主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統、主球面反射鏡裝調機構、刀口成像系統三個(gè)部分。其中，光源狹縫系統和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統，刀口成像系統與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀(guān)視系統，分別布局于兩個(gè)平臺上。
紋影法，又稱(chēng)紋影技術(shù)，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統進(jìn)行流場(chǎng)顯示和測量的常用的光學(xué)方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應用在光學(xué)玻璃折射率的檢測中。
1952年 ，Holde和Norht在紋影系統上使用白光的分光棱鏡 ，實(shí)現了彩色紋影成象，擴大了紋影技術(shù)的應用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應后指出，紋影法實(shí)用于水洞 的流場(chǎng)顯示；1974年 ，Merzkirch對可壓縮流場(chǎng)中的紋影技術(shù)進(jìn)行了分類(lèi)，把涉及到在紋影系統上進(jìn)行的干涉紋影法的研究 ，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ，均歸類(lèi)于紋影技術(shù),并得到國內同行的認可。
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